(資料圖片僅供參考)

IT之家 7 月 6 日消息，根據(jù) DigiTimes 報(bào)道，ASML 試圖規(guī)避荷蘭新銷售許可禁令，面向中國(guó)市場(chǎng)推出特別版 DUV 光刻機(jī)。

消息稱如果該項(xiàng)目繼續(xù)推進(jìn)，中芯國(guó)際、華虹等中國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)可以繼續(xù)使用荷蘭的設(shè)備生產(chǎn) 28 納米及更成熟工藝的芯片。

圖源 ASML

消息稱該特別版 DUV 光刻機(jī)基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系統(tǒng)改造，而 1980Di 是 10 年前推出的舊型號(hào)，不在本次官方禁令范圍內(nèi)。

1980Di 是 ASML 現(xiàn)有效率比較低的光刻機(jī)，支持 NA 1.35 光學(xué)器件、分辨率可以達(dá)到 <38 nm，理論上可以支持 7nm 工藝。

大多數(shù)晶圓廠使用 1980Di 光刻機(jī)，主要生產(chǎn) 14nm 及以上工藝芯片，很少使用其生產(chǎn) 7nm 芯片。

IT之家在此附上 DigiTimes 報(bào)道鏈接（需付費(fèi)閱讀），感興趣的用戶可以點(diǎn)擊閱讀。

標(biāo)簽：