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IT之家 12 月 29 日消息，盛美上海宣布，首臺(tái)具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的涂膠顯影 Track 設(shè)備 Ultra LITH 成功出機(jī)，順利向中國(guó)國(guó)內(nèi)客戶交付首臺(tái)前道 ArF 工藝涂膠顯影 Track 設(shè)備，該設(shè)備由盛美半導(dǎo)體設(shè)備 (亞太) 制造中心完成出貨。

盛美上海將于 2023 年推出 i-line 型號(hào)設(shè)備，并且公司已開始著手研發(fā) KrF 型號(hào)設(shè)備。

涂膠顯影 Track 設(shè)備

涂膠顯影 Track 設(shè)備支持光刻工藝，可確保滿足工藝要求，同時(shí)讓晶圓在光刻設(shè)備中曝光前后的涂膠和顯影步驟得到優(yōu)化。

IT之家獲悉，盛美上海涂膠顯影 Track 設(shè)備是一款應(yīng)用于 300 毫米晶圓工藝的設(shè)備，共有 4 個(gè)適用于 12 英寸晶圓的裝載口，8 個(gè)涂膠腔體、8 個(gè)顯影腔體。該設(shè)備腔體溫度可精準(zhǔn)控制在 23°C ±0.1°C ，烘烤范圍為 50°C 至 250°C，晶圓破損率低于 1/50,000 。此外，全球?qū)＠暾?qǐng)保護(hù)的全新結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)還可拓展支持 12 個(gè)涂膠腔體及 12 個(gè)顯影腔體，每小時(shí)晶圓產(chǎn)能可達(dá) 300 片，將來在配備更多的涂膠和顯影腔體的條件下還能達(dá)到每小時(shí) 400 片以上的產(chǎn)能。

盛美上海致力打造晶圓級(jí)的工藝解決方案平臺(tái)，旗下產(chǎn)品還包括單晶圓及槽式濕法清洗設(shè)備、電鍍?cè)O(shè)備、無應(yīng)力拋光設(shè)備、立式爐管設(shè)備，及 PECVD 設(shè)備。

標(biāo)簽： 結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì) 專利申請(qǐng)